PVD鍍膜材料是用于PVD（Physical Vapor Deposition，物理氣相沉積）技術制備薄膜材料的物質。PVD技術是一種在真空條件下，采用物理方法將某種材料氣化成氣態原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體（或等離子體）過程，在基板材料表面沉積具有增透、反射、保護導電、導磁、絕緣、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、裝飾等特殊功能的薄膜材料的技術。

PVD鍍膜材料可以根據不同產品類型分為蒸鍍材料和濺鍍材料。蒸鍍材料是通過蒸發源加熱蒸發某種物質使其沉積在基板材料表面來獲得薄膜的一種技術。濺鍍技術則是利用離子源產生的離子，在高真空中經過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發生動能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面而形成薄膜材料。

PVD鍍膜材料可以用于制備各種具有特定功能的薄膜材料，應用領域包括平板顯示、半導體、太陽能電池、光磁記錄媒體、光學元器件、節能玻璃、LED、工具改性、高檔裝飾用品等。