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真空濺射離子鍍膜(PVD)服務(wù)商

致力于高端涂層技術(shù)的研究提供成套解決方案

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PVD真空鍍膜廠家介紹離子真空鍍膜機(jī)的鍍膜技術(shù)

時(shí)間:2023-10-30    點(diǎn)擊數(shù):

 離子涂層技術(shù)廣泛應(yīng)用于裝飾真空涂層機(jī)、硬質(zhì)涂層真空涂層機(jī)、連續(xù)真空涂層機(jī)、汽車零部件真空涂層機(jī)等,因其沉積速度快、摩擦均勻性好、膜致密性好、繞射性好等優(yōu)點(diǎn),受到市場的青睞。以下是離子真空涂層機(jī)涂層技術(shù)的詳細(xì)介紹,希望能對您有所幫助:
 在真空條件下,離子鍍是利用氣體放電使氣體或蒸發(fā)物離子化,蒸發(fā)物或其反應(yīng)物在氣體離子或蒸發(fā)物離子的沖擊下蒸發(fā)到工件上。包括磁控濺射離子鍍、反應(yīng)離子鍍、空心陰極放電離子鍍(空心陰極蒸鍍法)、多弧離子鍍(陰極電弧離子鍍)等。離子鍍結(jié)合了輝光放電、等離子技術(shù)和真空蒸鍍技術(shù),不僅顯著提高了涂層的各種性能,而且大大擴(kuò)大了涂層技術(shù)的應(yīng)用范圍。除了真空濺射的優(yōu)點(diǎn)外,離子鍍膜還具有附著力強(qiáng)、繞射性好、可鍍材料廣泛等優(yōu)點(diǎn)。所以,近年來,國內(nèi)外發(fā)展迅速。借助惰性氣體的輝光或弧光放電,離子鍍的基本原理是使金屬或合金蒸汽離子化。離子電鍍包括電鍍材料(例如TiN)、TiC)加熱、蒸發(fā)、沉積過程。經(jīng)過輝光區(qū)時(shí),一小部分蒸發(fā)的鍍膜材料原子發(fā)生電離,在電場的作用下飛向工件,并以數(shù)千電子伏的能量射入工件表面,可以進(jìn)入基體幾納米的深度,從而大大提高了涂層的附著力,而未經(jīng)電離的蒸發(fā)材料原子直接沉積在工件上形成薄膜。工件表面發(fā)生惰性氣體離子與鍍膜材料離子的濺射,還能去掉工件表面的污染物,從而提高附著力。
 離子真空涂層機(jī)、蒸發(fā)涂層機(jī)和磁控濺射涂層機(jī)采用不同的技術(shù)。這些涂層技術(shù)原理也有自己的優(yōu)勢。可根據(jù)其涂層工件和膜層選擇不同的涂層方法,以滿足市場需求。


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